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杭州:到2025年集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模實現(xiàn)800億元

發(fā)布日期:2022-07-18 13:59瀏覽次數(shù):

近日,為全面推進杭州市集成電路產(chǎn)業(yè)高質量發(fā)展,杭州市人民政府發(fā)布《關于促進集成電路產(chǎn)業(yè)高質量發(fā)展的實施意見》(以下簡稱“《實施意見》”)。


圖片來源:杭州市人民政府官網(wǎng)截圖

《實施意見》指出杭州市未來五大發(fā)展目標,分別為產(chǎn)業(yè)能級倍增、空間布局合理、新能力提升、平臺服務強化、產(chǎn)業(yè)風險可控。

產(chǎn)業(yè)能級倍增。打造長三角集成電路核心城市,會同寧波市、紹興市、嘉興市協(xié)同打造環(huán)杭州灣集成電路核心產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)。到2025年,集成電路產(chǎn)業(yè)規(guī)模實現(xiàn)800億元、沖刺1000億元,年均增長20%;培育營收百億元企業(yè)1—2家、50億元企業(yè)3家以上、10億元企業(yè)10家以上;在設計制造、化合物半導體、半導體核心材料、關鍵設備及零部件等領域,培育一批“專精特新”中小企業(yè)。

空間布局合理。打造“一核一廊多點”空間格局?!耙缓恕奔礊I江創(chuàng)新核,強化國家集成電路設計杭州產(chǎn)業(yè)化基地和杭州國家“芯火”雙創(chuàng)基地作用,打造高端芯片產(chǎn)業(yè)優(yōu)質生態(tài)?!耙焕取奔闯俏骺苿?chuàng)大走廊,充分發(fā)揮大走廊體制優(yōu)勢,會同拱墅、臨平等地,在高端芯片、核心材料、關鍵設備、支撐軟件等領域形成一批重大創(chuàng)新成果。“多點”即以錢塘區(qū)、蕭山區(qū)、富陽區(qū)、桐廬縣、余杭區(qū)為重點,引培重大制造產(chǎn)線,推進重大項目建設,打造國家級特色工藝半導體制造基地,爭創(chuàng)省級萬畝千億產(chǎn)業(yè)平臺。

創(chuàng)新能力提升。到2025年,在人工智能芯片、視覺處理芯片、服務器芯片、車規(guī)級芯片、量子計算芯片、類腦計算芯片、化合物半導體等前沿領域形成一批創(chuàng)新成果,集成電路重點企業(yè)研發(fā)費用占營業(yè)收入比超5%。

平臺服務強化。培育集成電路集群促進機構,加強平臺服務功能,支持龍頭企業(yè)創(chuàng)建高端芯片、特色工藝、化合物半導體等技術研發(fā)中心,每年新增企業(yè)研發(fā)機構5家(含)以上。

產(chǎn)業(yè)風險可控。落實國家集成電路重大項目行業(yè)指導制度。規(guī)范市域項目布局,集中資源支持高端項目,避免重復建設一般項目。壓實重大項目市場主體責任,嚴格落實國家動態(tài)監(jiān)管要求,加強項目全生命周期管理。

《實施意見》明確了五項重點任務,包括實施高端設計引領行動、實施特色制造提升行動、實施特色制造提升行動、實施平臺能級躍升行動、實施長三角協(xié)同攻關行動。

實施高端設計引領行動。推進集成電路高端芯片研發(fā)計劃和產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新項目,大力發(fā)展高端模擬芯片和數(shù)?;旌闲酒?。以濱江區(qū)、城西科創(chuàng)大走廊、臨平區(qū)為重點,提升發(fā)展射頻傳感器、基帶、交換、光通信、顯示驅動、電源管理、RISC-V、物聯(lián)網(wǎng)智能硬件、車規(guī)級、FBAR濾波器、存算一體等新型專用芯片;創(chuàng)新發(fā)展嵌入式系統(tǒng)、存儲器、處理器、服務器等高端通用芯片;培育發(fā)展類腦計算、邊緣計算、量子計算、柔性電子、化合物半導體等前沿技術產(chǎn)品。

實施特色制造提升行動。構建特色工藝芯片制造產(chǎn)線,培育百億級鏈主企業(yè)。支持采取CMOS、MOSFET等工藝技術,發(fā)展IGBT、智能傳感器、MEMS、FinFET、半導體激光器、光電器件等產(chǎn)品。支持氮化鎵、碳化硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鋁等化合物半導體項目建設。以錢塘區(qū)、蕭山區(qū)、富陽區(qū)、桐廬縣、余杭區(qū)為重點,支持成熟制程成套工藝芯片制造產(chǎn)線項目。支持城西科創(chuàng)大走廊規(guī)劃建設高端存儲重大項目。

實施關鍵材料設備攻關行動。以濱江區(qū)、錢塘區(qū)、富陽區(qū)、臨安區(qū)、蕭山區(qū)、余杭區(qū)、臨平區(qū)、建德市為重點,支持大尺寸硅片等關鍵材料的研發(fā)攻關;提升光刻膠、高純化學試劑、電子氣體、功能高分子材料等的自給率和本地化配套率;提高電路測試、分選、超潔凈流控系統(tǒng)、半導體外延、化學機械平坦化拋光等設備的研制能力,突破一批關鍵核心技術。

實施平臺能級躍升行動。提升杭州國家“芯火”雙創(chuàng)基地、浙江省集成電路創(chuàng)新中心、錢塘芯谷、鎵谷射頻產(chǎn)業(yè)園、臨安云制造小鎮(zhèn)、杭州集成電路測試服務中心等平臺的運營服務水平,促進創(chuàng)新基地、研發(fā)平臺和產(chǎn)業(yè)基地的聯(lián)動發(fā)展。依托骨干企業(yè)、科研院所構建中小企業(yè)孵化平臺,為初創(chuàng)企業(yè)提供技術開發(fā)、信貸融資、市場推廣、法律訴訟、知識產(chǎn)權等指導服務。

實施長三角協(xié)同攻關行動。探索長三角協(xié)同攻關“揭榜掛帥”機制,推動長三角區(qū)域芯片、軟件和終端企業(yè)多方聯(lián)動,圍繞終端系統(tǒng)需求部署開展協(xié)同攻關,構建自主可控IP核布局。打造長三角“芯機聯(lián)動”對接平臺,支撐重大應用場景的開發(fā)。

在政策措施方面,《實施意見》中指出,要組織集成電路領域重大科技攻關。圍繞集成電路核心器件、高端芯片、關鍵材料、核心設備、EDA工具等,開展市級重大科技攻關。鼓勵企業(yè)牽頭承擔國家、省技術攻關任務,對獲批國家、省重大項目的,按照有關政策給予支持。鼓勵企業(yè)申報“中國芯”等行業(yè)獎項。

要加大首次流片、關鍵材料、核心設備和EDA工具的支持。對重點支持領域的高端芯片產(chǎn)品,首次流片費用1000萬元以上的,按照不超過其流片費用的15%給予補助,最高補助2000萬元;對集成電路關鍵材料、核心設備等自主研發(fā)投入5000萬元以上并實現(xiàn)實際銷售的,按照不超過其研發(fā)投入的15%給予補助,最高補助5000萬元;對開展EDA工具技術攻關,自主研發(fā)投入1000萬元以上并實現(xiàn)實際銷售的,按照不超過其自主研發(fā)投入的15%給予補助,最高補助2000萬元。

要支持公共平臺建設。對提供EDA工具和IP核、設計解決方案、先進工藝流片、先進封測服務、測試驗證等設備,用于高端芯片支撐服務的集成電路公共技術平臺,其實際建設投入在5億元以上的,完工后按投資額的6%給予補助,最高補助5000萬元。對公共服務平臺(機構)按其服務中小企業(yè)收入的10%給予補助,最高補助1000萬元。支持本市集成電路產(chǎn)業(yè)平臺服務長三角企業(yè)技術研發(fā)和產(chǎn)業(yè)合作


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